Эталонные меры малой длины (ЭМД) метрологические средства для измерения линейных размеров различных структур в промышленности.
Изготовление образцовых эталонных мер малой длины выполняется по специальным технологиям применямым в метрологии, обеспечивающих высокое оптическое качество элементов структуры на прецизионных фоторезистивных хромированных пластинах. Высокие требования, предъявляемые при изготовлении образцов эталонной меры малой длины позволяют проводить метрологическую аттестацию всех средств измерений, используемых в технологических процессах микроэлектроники, оптики и электронной оптики с помощю. ЭМД.
В структуре образцовой меры наряду со штрихами номинальных размеров в пределах от 1 до 200 мкм реализована штриховая мера с дискретностью 5 мкм в диапазоне до 1 мм и дискретностью 0,1 мм в диапазоне до 80 мм, а также периодическая мера с периодами от 2 до 400 мкм. Поверка образцовых мер производится дифракционным и фотометрическим методами на образцовых средствах измерений, разработанных в СНИИМе (г.Новосибирск).
Мера периодическая и мера ширины:
Мера периодическая и ширины предназначена для поверки рабочих средств измерений: дифракционных измерителей, микроскопов, установок для контроля линейных размеров элементов фотошаблонов «МТФ», анализаторов микроизображений типа «Nikon-2A», установок для контроля элементов фотошаблонов «ЭМ-557» и телевизионных микроскопов типа «Latimet».
Мера штриховая:
Мера штриховая предназначена для поверки рабочих средств измерений: измерительных микроскопов типа ИМЦ, ИМЦ-Л, проекторов измерительных типа ПИ, универсальных микроскопов типа УИМ, координатометров, фотометрических микроскопов ФЭМ, биологических микроскопов типа БИОЛАМ.
Мера совмещаемости:
Мера совмещаемости предназначена для поверки рабочих средств измерений: микроскопов типа MVG 7x7, ИМЦ, ИМЦ-Л и др.
Мера периодическая с периодами 2-400 мкм
Мера периодическая исполняется в негативном изображении. Погрешность аттестации ±(0,05+0,1L) мкм, где L-измеряемая величина в мм.
Мера штриховая:
Мера штриховая исполняется в негативном и позитивном изображении.
